多層線路板板在化學(xué)鍍銅前必須進(jìn)行去鉆污處理。去鉆污的作用是去除高速鉆孔過程中因高溫而產(chǎn)生的環(huán)氧樹脂污垢,保證化學(xué)鍍銅后電路連接的高度可靠性。
在去除附在孔壁上的環(huán)氧鉆污的同時(shí),為了充分暴露內(nèi)層銅環(huán)表面,而有控制地去除孔壁的環(huán)氧樹脂和玻璃布到規(guī)定深度,這樣的整個(gè)工藝就稱為凹蝕。山東芯演欣電子科技發(fā)展有限公司 聯(lián)系電話:18865375835
去除環(huán)氧鉆污一般有4 種方法:
① 濃硫酸法;
② 鉻酸法;
③ 堿性高錳酸鉀法;
④ 等離子體法。
前三種均為濕法處理工藝,其中使用比較普遍的是堿性高錳酸鉀法。這是由于硫酸和鉻酸都是強(qiáng)氧化劑,操作時(shí)酸霧大,環(huán)境惡劣,“三廢”處理費(fèi)用大,尤其鉻酸毒性較大,而且兩種酸都易浸蝕內(nèi)層銅箔上的氧化層,產(chǎn)生“粉紅圈”現(xiàn)象(由于內(nèi)層銅的黑氧化層被化學(xué)處理掉,而導(dǎo)致在環(huán)繞電鍍孔的內(nèi)層出現(xiàn)粉紅色的環(huán)狀區(qū)域)。另外,硫酸和鉻酸的處理時(shí)間如過長,則會(huì)使玻璃纖維顯露,樹脂和玻璃纖維間產(chǎn)生毛細(xì)管通路,使以后的鍍液浸入,造成絕緣破壞。因此它們逐漸被堿性高錳酸鉀體系所替代。
等離子體去鉆污是干法工藝,設(shè)備投資費(fèi)用大,而且由于是分批間歇操作,故效率低,生產(chǎn)成本高。它不僅能腐蝕環(huán)氧樹脂、聚酰亞胺,還能腐蝕玻璃布。因此,只在非用不可的場合,如在高檔的剛性、撓性和剛撓性的聚酰亞胺多層板中應(yīng)用。
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